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  • PECVD爐承載板（碳碳）

  • PECVD爐承載板（碳碳）

    PECVD爐承載板是用于在等離子體化學(xué)氣相沉積（PECVD）爐中生長和處理薄膜的承載工具。PECVD爐是一種常用的設(shè)備，用于在半導(dǎo)體、光學(xué)和玻璃基底上沉積各種薄膜，如氧化物、氮化物、碳化物等。

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商品描述

PECVD爐承載板是用于在等離子體化學(xué)氣相沉積（PECVD）爐中生長和處理薄膜的承載工具。PECVD爐是一種常用的設(shè)備，用于在半導(dǎo)體、光學(xué)和玻璃基底上沉積各種薄膜，如氧化物、氮化物、碳化物等。

     產(chǎn)品優(yōu)勢：

  1. 高強度和穩(wěn)定性：碳碳PECVD爐承載板通常由碳材料制成，具有很高的強度和穩(wěn)定性，能夠承受高溫和化學(xué)反應(yīng)的影響，保證在整個PECVD過程中的穩(wěn)定性和可靠性。

  2. 良好的熱傳導(dǎo)性：碳材料的熱傳導(dǎo)性良好，這有助于在PECVD過程中保持材料的溫度一致，從而提高沉積過程的均勻性和效率。

  3. 耐腐蝕性：由于碳材料具有很好的耐腐蝕性，因此碳碳PECVD爐承載板可以在各種化學(xué)環(huán)境下保持穩(wěn)定，不會因為化學(xué)反應(yīng)而損壞。

  4. 使用壽命長：碳碳PECVD爐承載板的使用壽命較長，可以減少更換頻率，降低長期運營成本



    性能參數(shù)：

產(chǎn)品性能

 參數(shù)

 單位

體積密度

 1.2-1.5

 g/cm3

抗折強度

120-150

Mpa

抗彎強度

110-130

Mpa

楊氏模量

30-40

 Gpa

灰分

 500

ppm

導(dǎo)熱系數(shù)(1000℃)

30-32

 W/m.k

長/寬

可根據(jù)客戶需求定制

直徑最大

可根據(jù)客戶需求定制

長度最大

可根據(jù)客戶需求定制

厚度

可根據(jù)客戶需求定制

最高使用溫度

 2800

℃

（無氧環(huán)境或惰性氣體保護下）